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2 ICP 플라즈마 에칭 장비 [SI 500] 첨부파일

SENTECH社 하이 엔드 플라즈마 에칭 시스템 SI (500) 는 저 손상 에칭 및 나노 구조화를 위해 낮은 이온 에너지를 갖는 유도 결합 플라즈마를 사용한다

1 PECVD 플라즈마 증착 시스템 [SI 500 D] 첨부파일

SI 500 D 는 플라즈마 기반 증착 공정에 탁월한 성능을 제공합니다. 고품질 유전체 및 Si 막은 PTSA ICP 플라즈마 소스로 생성 된 고밀도 PECVD를 사용하여 증착됩니다.